常规定义:电容屏技术分两种:表面电容(SurfaceCapacitive)技术&投射电容(Projective
Capacitive)技术。
表面电容(SurfaceCapacitive)技术,即它的架构相对简单,采用一层ITO玻璃为
主体,外围至少有四个电极,在玻璃四角提供电压,在玻璃表面形成一个均匀的电场,当使用者进行触按操作时,控制器就能利用人体手指与电场静电反应所产生的变化,检测出触控坐标的位置。此类架构决定了表面电容式技术无法实现多点触控功能,因为它采用了一个同质的感应层,而这种感应层只会将触控屏上任何位置感应到的所有信号汇聚成一个更大的信号,同质层破坏了太多的信息,以致于无法感应到多点触控。另外,表面电容式触控屏还存在小型化的困难,很难应用于手机屏幕,大多用于中大尺寸领域。(该技术在手机应用方面很难实现,排除X10、iPhone4)
投射电容(ProjectiveCapacitive)技术,是实现多点触控的希望所在。它的基本技术原理仍是以电容感应为主,但相较于表面电容式触摸屏,投射电容式触摸屏采用多层ITO层,形成矩阵式分布,以X轴、Y轴交叉分布做为电容矩阵,当手指触碰屏幕时,可通过X、Y轴的扫描,检测到触碰位置电容的变化,进而计算出手指之所在。基于此种架构,投射电容可以做到多点触控操作。(官方宣布索尼爱立信X10版本升级将会支持多点触控,结果版本升级了,多点触控没了。)
投射电容的触控技术主要有两种:一种是自电容型(selfcapacitance,也称absolutecapacitance),另一种为互电容型(mutualcapacitance,也称transcapacitance)。自电容型是指触控物与电极间产生电容耦合,并量测电极的电容变化确定触碰发生;互电容型则是当触碰发生,会在邻近2层电极间产生电容耦合现象。
根据这两种原理,可以设计不同的投射电容式架构,不同架构能做到的多点触控功
能也就不同。多点触控其实可细分为两种:一种是手势辨识追踪与互动(Gesture
interaction),也就是仅侦测、分辨多点触控行為,如缩放、拖拉、旋转…等,实现方式为轴交错式(Axisintersect)技术;另一种则是找出多点触控个别位置,此功能需要复杂触点可定位式(Allpointaddressable;APA)技术才能达成